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LineWorks SDC

Methoden zur Aufdeckung und Analyse von Defekten

Effektive statistische Methoden zur Erkennung von Defekten auf Wafern: Als fabrikweit integrierte Lösung bietet dieses Add-on von LineWorks SPACE statistische Methoden zur Aufdeckung und Analyse von Defekten (wie z.B. Störstellen, Herstellungsfehler, Partikel, Kratzer) auf Wafern.

LineWorks SDC schliesst die Lücke zwischen statistischer Prozesskontrolle und Analysen räumlicher Signaturen. Mit SDC stehen mehrere SPC-Strategien zur Verfügung, um kritische Fehlerklassen mit normalisierten Fehlerdichtediagrammen (NDD) zu kontrollieren. Trend- und Paretoanalysen, Kontrolleingriffsgrenzen Berechnungen, Werkzeuganpassung, Korrekturmaßnahmen und fortschrittliche SPC-Methoden wie z.B. Moving Median werden genutzt, um Maßnahmen gegen Killerdefekte zu ergreifen. Die integrierte Plattform synchronisiert eine eingebettete Wafermap mit der ausgewählten Probe im SPC-Diagramm. Bediener und Ingenieure von Wafer-, Festplatten- und Chipherstellern können ihr LineWorks SPACE-Fachwissen wiederverwenden und benötigen weniger Zeit für wiederkehrende Defekt- und Ursachenanalysen.

Features

  • eingebettete Wafer Karte mit ausgewählten SPC Diagrammen zur Probe
  • verwaltet und gruppiert kritische Fehlerklassen für NDD Berechnung von Inspektionsschritten
  • integrierte Regelgrenze für die Berechnung normiert Defektdichte
  • erweiterte Bewertung von SPC-Funktionalität (EWMA, bewegte Median) für kritische Defekte
  • Parser für Industriestandard-Scan-/Überprüfungsergebnisdateien
  • unterstützt strukturierte und unstrukturierte Wafer
  • Daten von Fehlern und Messungen werden in ein System integriert
  • fabrikweite Lösung für alle Operatoren und Ingenieure
  • basierend auf der branchenführenden Plattform SPACE
  • CA-Workflows mit eCAP
  • MES Integrationsoption

Vorteile

  • sparen Sie Kosten und Zeit, indem Sie Killer-Defekte aufdecken und mit vielseitigen statistischen Methoden zur Prozessregelung überwachen
  • hohe Auffälligkeit von Defekten mithilfe automatisierter Erkennung
  • bemerken Sie Defekte schneller durch periodische Defekt- und Ursachenanalysen

Highlights der Version 1.0.1

  • Der KLArf Parser unterstützt nun unstrukturierte Wafer sowie Defekt- und Zusammenfassungslisten
  • Wafer können nun in der Gallerieansicht betrachtet werden, bei der jeder Wafer separat auf dem Grid dargestellt wird

Download LineWorks SDC Datasheet (English)

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